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RDN_ROXAS
postato il: 05.03.2014, alle ore 23:21 |
soda caustica: è veramente necessaria?
ciao a tutti
voglio cimentarmi nella realizzazione di un circuito stampato.
ho già bromografo, basetta presensibilizzata e cloruro ferrico in bottiglia. ho deciso di utilizzare il metodo che prevede di stampare il master su fogli lucidi.
quando l'ho spiegato al venditore e gli ho chiesto di darmi ciò che mi serve per fare i circuiti stampati mi ha dato solo le basette presensibilizzate e il cloruro ferrico. Su internet invece leggo che serve anche la soda caustica, ma è davvero necessaria? il cloruro ferrico non attacca il photoresist esposto ? se è necessario, esiste qualche alternativa "casalinga"?
grazie |
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roderick
postato il: 05.03.2014, alle ore 23:59 |
RDN_ROXAS: Su internet invece leggo che serve anche la soda caustica, ma è davvero necessaria?
Si
il cloruro ferrico non attacca il photoresist esposto ?
No
esiste qualche alternativa "casalinga"?
La soda si trova a costi irrisori nei colorifici / drogherie / negozi di detersivi, le alternative sono i liquidi disgorganti che spesso contengono soda caustica diluita (bisogna verificare l'etichetta).
Tutto questo vale se si usa il processo POSITIVO, mentre il developer del processo negativo è il carbonato di sodio |
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Tuttologo
postato il: 06.03.2014, alle ore 10:41 |
roderick:
Tutto questo vale se si usa il processo POSITIVO, mentre il developer del processo negativo è il carbonato di sodio
scusa ma questa me la spiegheresti meglio?
forse dipende dal materiale photoresist...
o intendi che comperi una presensibilizzata positiva e se usi la soda sviluppa positivo, mentre se usi il carbonato di sodio sviluppa in negativo?
non riesco a capire dato che io sviluppo negativi (li preferisco ai positivi) ma uso la soda....mai manco visto il carbonato di sodio...
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roderick
postato il: 06.03.2014, alle ore 11:44 |
Per il processo negativo si usa il fotoresist dry film ma credo esistano anche schede presensibilizzate negative (io uso il dry film).
A differenza del fotoresist positivo, che si sviluppa con la soda caustica (idrato di sodio), il developer del resist negativo è il carbonato di sodio, noto anche come soda solvay.
Ovviamente il master deve essere al contrario: col positivo viene illuminata la parte da rimuovere, col negativo si illumina quello che deve rimanere |
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roderick
postato il: 06.03.2014, alle ore 11:50 |
P.S. Non saprei se la soda caustica sviluppa pure il negativo, io uso da sempre il carbonato perchè era indicato nelle istruzioni d'uso del film.
Uso la soda caustica alla fine dell'incisione, in concentrazione elevata, per rimuovere tutto il resist rimasto |
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Tuttologo
postato il: 06.03.2014, alle ore 11:53 |
io uso sia presensibilizzate positive che dryfilm negativo (il film blu per capirci).
tutti e due uso volgaris soda caustica da supermercato 1 euro 100kg....(nel senso che meno costa meglio e')....
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Tuttologo
postato il: 06.03.2014, alle ore 12:01 |
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roderick
postato il: 06.03.2014, alle ore 12:14 |
Uso lo stesso film negativo e soda solvay, 2 euro 1 kg. Alla fine quello che conta è il risultato. Bungard suiggeriva il carbonato, ho sempre usato quello |
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elektorplus
postato il: 06.03.2014, alle ore 16:14 |
io per sbaglio una volta ho utilizzato una piatra presensibilizzata negativamente (al posto della positiva) e sviluppando con soda caustica ho rimosso comunque il fotoresist.
Non so se sia una coincidenza o altro...
http://elektor.altervista.org/ |
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Flyback_transformer
postato il: 07.03.2014, alle ore 20:34 |
Per il photoresist positivo, in realtà , si possono usare molte altre sostanze basiche: soda caustica (NaOH), potassa caustica (KOH), sodio metasilicato (Na2SiO3) e, probabilmente, quasi tutte le sostanze chimiche che danno soluzioni alcaline (pH>7). La soda caustica è il banale disgorgante in scaglie per tubature, la potassa caustica la si trova, qualche volta, in soluzione anche questa per liberare le tubature, mentre trovare il sodio metasilicato diventa più difficile. Avevo fatto diverse ricerche su internet dove dicevano che i migliori, per lo sviluppo delle basette, fossero la potassa caustica ma soprattutto il sodio metasilicato. Quest'ultimo, per chi volesse provare, può essere facilmente fatto partendo dalle palline di silica gel (quei sacchettini che mettono dentro alle scarpe per intenderci) e soda caustica (su internet si trova la ricetta).
Per il photoresist negativo, io sto usando carbonato di sodio e, nelle varie prove, sto ottenendo risultati molto incoraggianti. Ma anche qui, credo che qualunque soluzione basica (soda, soda caustica, potassa caustica,...) possa dare, chi meglio chi peggio, lo sviluppo. L'importante è, per ognuno, trovare la giusta concentrazione e la giusta temperatura del bagno alcalino.
Per l'incisione consiglierei la miscela 1:1:1 di acqua distillata + acqua ossigenata (110-130vol) + acido cloridrico (32%), (per esempio 100ml di H20 + 100ml di H2O2 + 100ml di HCl). Tale miscela risulta molto rapida, non macchia e non è particolarmente pericolosa (bastano degli occhiali di protezione e dei guanti in lattice o nitrile). L'unica cosa è che bisogna lavorare in un locale areato (basta mettersi davanti ad una finestra aperta o meglio ancora all'aperto). Le cose cambiano se invece non si rispettano i rapporti volumetrici indicati e si eccede con l'acqua ossigenata e/o con l'acido cloridrico: in tal caso la soluzione si scalda facilmente anche fino all'ebollizione, producendo una grande quantità di fumi tossici e corrosivi (Cl2 e HCl).
Saluti
Simone |
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